反應(yīng)離子刻蝕機的原理和結(jié)構(gòu)

基本原理

     反應(yīng)離子刻蝕機是整個有機化學(xué)過程和物理過程相互作用的結(jié)果。其基本概念是在真空泵氣壓低下，ICP頻射開關(guān)電源引起的頻射輸出到環(huán)形蓮藕電磁線圈，通過蓮藕輝光放電與一定比例的混合蝕刻汽體產(chǎn)生高密度等離子技術(shù)。在下電級RF頻射效應(yīng)下，反應(yīng)離子刻蝕機對基板表面進(jìn)行負(fù)電子，切斷基板圖形區(qū)域半導(dǎo)體器件的離子鍵，與蝕刻汽體轉(zhuǎn)化為揮發(fā)性化學(xué)物質(zhì)。

構(gòu)造：

    機械設(shè)備的重點包括預(yù)真空室、刻蝕室、氣路系統(tǒng)軟件和超濾裝置。

(1)預(yù)真空室。

   預(yù)真空室的作用是保證刻蝕室內(nèi)設(shè)定的真空值不受外部自然環(huán)境(如煙塵、水蒸氣)的傷害，保護(hù)危險因素蒸汽和凈化車間。它由后蓋板、機械臂、傳動機構(gòu)、防護(hù)門等組成。

(2)內(nèi)腔刻蝕。

   蝕刻內(nèi)腔是ICP蝕刻機械設(shè)備的關(guān)鍵結(jié)構(gòu)，往往對蝕刻速度、平整度和表面粗糙度造成立即傷害。蝕刻腔的關(guān)鍵組成部分包括:上電級、ICP頻射模塊、RF頻射模塊、下電級系統(tǒng)軟件、溫控系統(tǒng)軟件等。

(3)氣路系統(tǒng)軟件。

   氣路系統(tǒng)軟件是根據(jù)壓力控制器(PC)和質(zhì)量流量控制器(MFC)，將各種刻蝕汽體運輸?shù)娇涛g內(nèi)腔，準(zhǔn)確控制汽體的水流和總流量。汽體供應(yīng)系統(tǒng)軟件由氣動閥門瓶、汽體運輸管道、自動控制系統(tǒng)、混合模塊等組成。

(4)超濾裝置。

   超濾裝置有兩種，分別用于預(yù)真空室和刻蝕內(nèi)腔。預(yù)真空室由機械泵獨立真空包裝。只有當(dāng)預(yù)真空室的真空值達(dá)到預(yù)設(shè)值時，才能打開保護(hù)門并進(jìn)行傳輸?？涛g內(nèi)腔的真空泵由機械泵和分子泵相互顯示，刻蝕內(nèi)腔反映轉(zhuǎn)化的氣體也由超濾裝置排出。

  以上就是小編為大家介紹的反應(yīng)離子刻蝕機的原理和結(jié)構(gòu)。